IC化学机器掷光设施(简称“IC-CMP”)是集成电等电子元器件出产进入纳米级工艺后的一项环节设施

2009年国度将硅片单面化学机械抛光设备列入国度科技严沉专项02专项(极大规模集成电制制配备及成套工艺)。

中国电科科研人员不竭立异,先后霸占了多项环节手艺,申请专利20项(国内发现专利11项,国际发现专利3项),终究成功研发了完全自从学问产权的我国首台12英寸硅片化学机械抛光设备,为我国电子消息财产成长阐扬主要感化。

近日,中国电科所属第45研究所成功研制出具有完全自从学问产权的国内首台12英寸硅片单面化学机械抛光机机。

当当代界只要美、日两国才能出产,正在手艺难度和主要性上仅次于光刻机,IC化学机械抛光设备(简称“IC-CMP”)是集成电等电子元器件出产进入纳米级工艺后的一项环节设备,45所研制成功的硅片单面化学机械抛光设备为国内IC-CMP的研发打下的根本。

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